【百家大講堂】中科院物理所唐云俊博士作 “傳感器生產的薄膜工藝和設備制造”學術報告
發布日期：2019-11-04 供稿：材料學院 攝影：材料學院
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10月30日上午，由研究生院主辦、材料學院協辦的第262期北京理工大學百家大講堂在中關村校區5號教學樓502-1舉行，美國AVP科技公司總技術官、中科院物理所固體物理博士唐云俊作了“傳感器生產的薄膜工藝和設備制造”的學術報告，材料學院譚成文老師及相關專業師生參加了報告會。
唐云俊首先對比介紹了傳統機加車間與微納加工FAB的特點與應用范圍，隨后圍繞傳感器制備工藝原理、薄膜沉積和離子刻蝕（IBE）的基本要求與設備參數調節原則、設備系統集成控制軟件三方面進行詳細講解。唐云俊談到，傳感器制備過程中兩個核心步驟為薄膜的沉積與刻蝕。他以Cluster PVD薄膜沉積設備為例，詳細介紹了基片表面清潔、降低薄膜應力、控制膜厚均勻性、防范顆粒污染的方法與經驗；以Refill 3D薄膜沉積設備為例講解了反應濺射的遲滯效應、薄膜特點以及參數控制；關于離子刻蝕機（IBE），他闡述了離子刻蝕的基本原理、金屬柵網功能、刻蝕的要求與刻蝕均勻性、速率的控制方法；最后介紹了設備集成系統的特點與功能。
唐云俊詳細解答了老師、同學們關于離子刻蝕的離子源選擇、能量調控、靶材制備、設備對環境的要求以及離子刻蝕晶體學選擇性等問題。唐云俊談到，光刻機是半導體行業的核心設備，但目前我國的自主研發能力不足，他鼓勵在座的北理工學子要將科學研究與實際應用相結合，切實解決現實生產過程中遇到的技術難題，為中國半導體行業崛起貢獻力量。
譚成文為唐云俊頒發了北理工“百家大講堂”紀念證書，“傳感器生產的薄膜工藝和設備制造”學術報告圓滿結束。
【主講人簡介】
唐云俊，為美國AVP科技公司總技術官，中科院物理所固體物理博士，是薄膜材料、半導體工藝和設備專家。曾就職于西部數據公司任高級研發工程師，負責寫磁頭薄膜沉積、刻蝕，以及器件的工藝合成，制定工藝制度，發現并解決器件工藝制備過程中的問題，精通微納器件制造各種工藝流程、設備特性、研發和制造技術。在國際期刊發表50多篇學術論文，并有十多個中、美專利。曾為美國《Physical Review B》《J. Appl. Phys.》及英國Institute of Physics 期刊雜志審稿人。
